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J-GLOBAL ID:200903039072937235
プラズマ処理装置およびスパッタ装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
志賀 正武 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997270187
Publication number (International publication number):1999111620
Application date: Oct. 02, 1997
Publication date: Apr. 23, 1999
Summary:
【要約】【課題】 装置設計上の制約が少なく、しかも、装置の小型化が可能なマイクロ波を用いたプラズマ処理装置およびスパッタ装置を提供する。【解決手段】 本プラズマ処理装置は、マイクロ波11を透過し得る材料からなるガラス基板1を収容するチャンバー2と、チャンバー2内に処理用ガス4を供給するガス供給手段3と、マイクロ波11を透過し得る石英材料からなり、チャンバー2の一部を構成してガラス基板1を保持する底板7と、チャンバー2内でプラズマ9を生成させるためのマイクロ波11を底板7およびガラス基板1を通して供給するラジアルラインスロットアンテナ8とを具備している。
Claim (excerpt):
マイクロ波を透過し得る材料からなる被処理物を収容するチャンバーと、該チャンバー内に処理用ガスを供給するガス供給手段と、マイクロ波を透過し得る材料からなり、前記チャンバーに設けられて前記被処理物を保持する被処理物保持部と、前記チャンバー内でプラズマを生成させるためのマイクロ波を、前記被処理物保持部および被処理物を通して供給するマイクロ波供給手段と、を具備したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (7):
H01L 21/205
, C23C 14/40
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/3065
, H01L 21/31
, H05H 1/46
FI (7):
H01L 21/205
, C23C 14/40
, C23C 16/50
, C23F 4/00 D
, H01L 21/31 C
, H05H 1/46 B
, H01L 21/302 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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プラズマ発生電極装置およびプラズマ発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-165624
Applicant:日本碍子株式会社
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特開平3-262119
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