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J-GLOBAL ID:200903039080400852

4つのスパッタ層を有する広帯域反射防止被膜

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中村 稔 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998373638
Publication number (International publication number):1999271507
Application date: Dec. 28, 1998
Publication date: Oct. 08, 1999
Summary:
【要約】【課題】 四層を含む広帯域多層反射防止膜を、直列マグネトロンスパッタリング機械で堆積するために設計すること。【解決手段】 第3層30の基板からの光学厚さを低反射率帯の中心で1/4波長より低くし、第2層28及び第4層32を二酸化ケイ素で作る。
Claim (excerpt):
透明又は半透明基板用の反射防止被膜(20)であって、約1.9より大きい屈折率を有する基板(22)に隣接する第1層(26)、二酸化ケイ素又は20%より少ない他の材料をドープした二酸化ケイ素を有する第2層(28)、約2.1より大きい反射率を有し、0/4よりも小さい光学厚さ(ただし、 0は反射防止被膜の中心波長であり420nm〜1600nmである)を有する第3層(30)、及び二酸化ケイ素又は20%より少ない他の材料をドープした二酸化ケイ素を有する第4層(32)、を含むことを特徴とする透明又は半透明基板用の反射防止被膜(20)。
IPC (3):
G02B 1/11 ,  B32B 7/02 103 ,  C23C 14/34
FI (3):
G02B 1/10 A ,  B32B 7/02 103 ,  C23C 14/34 N

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