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J-GLOBAL ID:200903039100013028

パターン位置確認方法及びその装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三好 祥二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993069411
Publication number (International publication number):1994258029
Application date: Mar. 04, 1993
Publication date: Sep. 16, 1994
Summary:
【要約】【目的】被検査体のパターンの位置検査を基準画像との画像比較で行う場合に、取込画像の位置ずれに影響されることなく正確に被検査体のパターン位置の確認を可能とする。【構成】基準画像の重心位置と被検査体の画像重心位置とをそれぞれ求め、両重心位置に許容範囲以上のずれがある場合は、画像の重心位置の少なくとも一方の座標変換をして両重心の位置を合わせ、前記基準画像と被検査体の画像との比較を行い、両画像自体のずれの影響を除去する。
Claim (excerpt):
基準画像の重心位置と被検査体の画像重心位置とをそれぞれ求め、両重心位置に許容範囲以上のずれがある場合は、画像の重心位置の少なくとも一方の座標変換をして両重心の位置を合わせ、前記基準画像と被検査体の画像との比較を行うことを特徴とするパターン位置確認方法。
IPC (3):
G01B 11/00 ,  G06F 15/62 405 ,  G06F 15/70 360
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開昭60-173754

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