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J-GLOBAL ID:200903039112983227

水素分離膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 内田 明 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991276418
Publication number (International publication number):1993085702
Application date: Sep. 30, 1991
Publication date: Apr. 06, 1993
Summary:
【要約】【目的】 混合ガス中の水素を分離するための水素分離膜の製造方法に関する。【構成】 細孔を有する金属多孔体の表面に、PdまたはPdを含有する薄膜を形成させる方法において、めっきまたはイオンプレーティングなどの途中で封孔処理(金属などによりしごくか、ブラスト処理によって行う)を行う水素分離膜の製造方法。
Claim (excerpt):
細孔を有する金属多孔体の表面に、PdまたはPdを含有する薄膜を形成させる方法において、めっきまたはインプレーティングなどの途中で封孔処理を行うことを特徴とする水素分離膜の製造方法。
IPC (5):
C01B 3/56 ,  B01D 71/02 500 ,  C23C 14/16 ,  C23C 14/48 ,  C23C 18/42

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