Pat

J-GLOBAL ID：200903039114237484

ビスマス-スズ合金めっき浴

Inventor： 田辺 靖博 ,  片山 順一 ,  西浜 幸男
Applicant, Patent owner： 奥野製薬工業株式会社
Agent (1)： 三枝 英二 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995026479
Publication number (International publication number)：1996225985
Application date： Feb. 15, 1995
Publication date： Sep. 03, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】陰極電流密度の変動に伴う析出合金組成の変動がほとんどなく、ビスマスの置換析出が生じることがなく、しかも平滑化剤、光沢剤等を配合した場合にも、Bi含有率の低下や電流効率の低下が生じ難い。【構成】ビスマス塩、2価のスズ塩、ビスマス塩及び2価のスズ塩を溶解する酸、並びに、一般式(a):(R1 )3 P (a)〔式中、R1 は、低級アルキル基、シクロアルキル基又はフェニル基を示す〕で表わされる化合物、一般式(b):〔式中、R2 は低級アルキル基又はフェニル基、R3 はハロゲン原子又は基OM(Mは水素原子、アルカリ金属又は低級アルキル基)〕で表わされる化合物、及び一般式(c):〔式中、R4 、R5 、R6 、R7 及びR8 は、同一又は異なって、水素原子又はアルカリ金属を示す〕で表わされる化合物を含有するビスマス-スズ合金めっき浴。

Claim (excerpt)：

(i) ビスマス塩、(ii)2価のスズ塩、(iii)ビスマス塩及び2価のスズ塩を溶解する酸、並びに(iv)一般式(a):(R1 )3 P (a)〔式中、R1 は、低級アルキル基、シクロアルキル基又はフェニル基を示す〕で表わされる化合物、一般式(b):【化1】〔式中、R2 は、低級アルキル基又はフェニル基を示し、R3 は、ハロゲン原子又は基OM(Mは水素原子、アルカリ金属又は低級アルキル基を示す)を示す〕で表わされる化合物、及び一般式(c):【化2】〔式中、R4 、R5 、R6 、R7 及びR8 は、同一又は異なって、水素原子又はアルカリ金属を示す〕で表わされる化合物から選ばれた少なくとも一種の有機リン化合物を含有することを特徴とするビスマス-スズ合金めっき浴。