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J-GLOBAL ID：200903039121007877

反射防止膜材料

Inventor： 竹村 勝也 ,  石原 俊信 ,  渡辺 聡 ,  丸山 和政 ,  木下 博文 ,  山口 浩一
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994069050
Publication number (International publication number)：1995253674
Application date： Mar. 14, 1994
Publication date： Oct. 03, 1995
Summary：

【要約】【構成】 基板上に形成したフォトレジスト層上に形成され、露光後に溶剤で除去される透明な反射防止膜を形成する反射防止膜材料において、炭化水素系の有機溶剤に可溶なフッ素系樹脂を主成分とすることを特徴とする反射防止膜材料。【効果】 本発明の反射防止材料は、入射光の損失無しにレジスト層表面での反射光を低減し、かつレジスト層での光多重干渉によるパターン寸法の変動量を低減する反射防止膜を形成する材料として有用である。

Claim (excerpt)：

基板上に形成したフォトレジスト層上に形成され、露光後に溶剤で除去される透明な反射防止膜を形成する反射防止膜材料において、炭化水素系の有機溶剤に可溶なフッ素系樹脂を主成分とすることを特徴とする反射防止膜材料。

IPC (3)：

G03F 7/11 503 ,  G03F 7/075 ,  H01L 21/027