ポジ型感放射線性組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小栗昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002130718
Publication number (International publication number)：2003322972
Application date： May. 02, 2002
Publication date： Nov. 14, 2003
Summary：

【要約】【課題】 160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型感放射線性組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、デフォーカスラチチュードが広く、現像欠陥が抑制されたポジ型感放射線性組成物を提供する。【解決手段】 (A1)活性光線又は放射線の照射により酸を発生するイオン性化合物、(A2)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する非イオン性化合物、(B)特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(C)溶剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。

Claim (excerpt)：

(A1)活性光線又は放射線の照射により酸を発生するイオン性化合物、(A2)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する非イオン性化合物、(B)下記一般式(I)〜(VI)で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(C)溶剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】【化2】【化3】一般式(I)及び(II)に於いて、mは、0又は1を表す。一般式(I)及び(IV)〜(VI)に於いて、Xは、水素原子又は酸の作用により分解する基を表す。一般式(I)に於いて、R11〜R16は、各々独立に、水素原子、フッ素原子、又はフルオロアルキル基を表すが、少なくとも一つは水素原子ではない。一般式(II)に於いて、R3aは、水素原子又は酸の作用により分解する基を表す。一般式(III)に於いて、R4aは、水素原子又は酸の作用により分解する基を表す。一般式(IV)に於いて、R21〜R32は、各々独立に、水素原子、フッ素原子、又はフルオロアルキル基を表すが、少なくとも一つは水素原子ではない。一般式(V)及び(VI)に於いて、R1a及びR2aは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、又はトリフルオロメチル基を表す。R41〜R46及びR51〜R56は、各々独立に、水素原子、フッ素原子、又はフルオロアルキル基を表すが、R41〜R46のうちの少なくとも一つ及びR51〜R56のうちの少なくとも1つは水素原子ではない。nは、1〜5の整数を表す。

IPC (9)：

G03F 7/039 601 , C08F 10/00 , C08F 12/22 , C08F 20/22 , C08F 20/26 , C08F 32/00 , G03F 7/004 503 , G03F 7/004 504 , H01L 21/027

FI (9)：

G03F 7/039 601 , C08F 10/00 , C08F 12/22 , C08F 20/22 , C08F 20/26 , C08F 32/00 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 504 , H01L 21/30 502 R

F-Term (34)：

2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB41 , 2H025CC03 , 2H025FA17 , 4J100AD13S , 4J100AL24Q , 4J100AL26Q , 4J100AL26R , 4J100AR09P , 4J100BA02R , 4J100BA06R , 4J100BA20P , 4J100BA22R , 4J100BB07P , 4J100BB07R , 4J100BB07S , 4J100BB18P , 4J100BB18R , 4J100BB18S , 4J100BC04R , 4J100BC07Q , 4J100BC43Q

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