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J-GLOBAL ID：200903039153019664
疎水性MALDIプレートおよびMALDIプレートを疎水性にするためのプロセス
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
山本 秀策
, 安村 高明
, 森下 夏樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2004530991
Publication number (International publication number)：2005536743
Application date： Aug. 13, 2003
Publication date： Dec. 02, 2005
Summary：
コーティング基板および/または基板濃度を変化させることによって厚さおよび疎水性特性が改変され得る疎水性コーティングを有する導電性基板を備える、MALDIプロセス用のサンプルプレートが提供される。再現性のある沈積、ならびに分析物混合物のMALDI-MSおよびMALDI-MS/MSプロセスについて分析についてサンプルプレートの最適な性能が提供される異なるコーティング物質としては、合成ろう(例えば、パラフィン組成物)、脂質、有機酸、ケイ素含有化合物、シリカポリマーおよび自然のろうが挙げられる。プレート表面をクリーニングおよび再生するために用いられた金属艶出し剤もまた、再現性のある沈着、ならびに分析物混合物のMALDI-MSおよびMALDI-MS/MSプロセスによる分析について最適な性能を有するサンプルプレートを提供した。
Claim (excerpt)：
MALDIプロセスにおいて使用するために適切なサンプルプレートであって、該サンプルプレートは、第1表面を有する導電性基板を備え、該第1表面は、疎水性コーティングで完全にコーティングされており、該疎水性コーティングは、合成ろう、天然のろう、脂質、有機酸、エステル、ケイ素オイル、もしくはシリカポリマーまたは互いのもしくは化学的組成物の成分としてのいずれかでの前記の物質の混合物のうちの少なくとも1つからなる、サンプルプレート。
IPC (1)：
FI (2)：
G01N27/62 V
, G01N27/62 F
2G041AA10
, 2G041CA01
, 2G041DA04
, 2G041EA01
, 2G041FA11
, 2G041FA12
, 2G041GA09
, 2G041GA16
, 2G041JA08
, 4B029AA07
, 4B029AA21
, 4B029FA10
, 4B029FA15
