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J-GLOBAL ID：200903039189833589

量子細線装置及び製法

Inventor： 岡島 芳彦 ,  加藤 和男 ,  森谷 吉久
Applicant, Patent owner： 電気化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993317055
Publication number (International publication number)：1995169938
Application date： Dec. 16, 1993
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】 半導体に利用される量子細線装置及び製法を得る。【構成】 単結晶基板と該単結晶基板上にVLS成長法により形成された針状単結晶からなる量子細線により構成される量子細線装置及びその製法。

Claim (excerpt)：

単結晶基板と該単結晶基板上にVLS成長法により形成された針状単結晶からなる量子細線により構成されたことを特徴とする量子細線装置。

IPC (2)：

H01L 29/06 ,  H01L 21/208