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J-GLOBAL ID:200903039238700689
真空処理装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
梶原 辰也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992087877
Publication number (International publication number):1993259259
Application date: Mar. 11, 1992
Publication date: Oct. 08, 1993
Summary:
【要約】【目的】 検査の頻度向上と検査結果のフィードバックのスピ-ドアップ、また、それに伴う不良作り込みを防止する。【構成】 減圧CVD装置において、気密室に形成されて被処理物が搬入搬出され、真空排気されるロードロック室2と、気密室に形成され、ロードロック室2に隣接されてゲートバルブ6によって連通を開閉される搬送室3Aと、気密室に形成され搬送室3Aに隣接されてゲートバルブ7によって連通を開閉される処理室4Aと、気密室に形成され搬送室3Aに処理室4Aと別の位置で隣合わせに配されてゲートバルブ8によって連通を開閉される検査室54と、搬送室3Aに設備され、ロードロック室12、処理室4Aおよび検査室5Aとの間でウエハ1を受け渡すロボット21Aとを備えている。【効果】 処理装置4Aと検査装置5Aとは同一の装置内に設備されているため、処理後のウエハ1について直ちに検査を実施でき、検査時間を短縮化でき、検査データをその処理装置4Aにおける以後の処理に直ちに利用できる。
Claim (excerpt):
真空室で被処理物について所定の処理が施される真空処理装置において、気密室に形成されているとともに、被処理物が搬入搬出され、真空排気されるロードロック室と、気密室に形成され、前記ロードロック室に隣合わせに配されて連通されているとともに、ゲートバルブによってロードロック室への連通を開閉されるように構成されている搬送室と、気密室に形成されているとともに、真空排気され、前記搬送室に隣合わせに配されて連通され、かつ、ゲートバルブによってその搬送室への連通を開閉されるようにされている処理室と、気密室に形成されているとともに、真空排気され、前記搬送室に前記処理室と別の位置で隣合わせに配されて連通され、かつ、ゲートバルブによってその搬送室への連通を開閉されるようにされている検査室と、前記搬送室に設備されており、前記ロードロック室、処理室および検査室との間で前記被処理物を受け渡す受け渡し手段とを備えていることを特徴とする真空処理装置。
IPC (4):
H01L 21/68
, H01L 21/203
, H01L 21/205
, H01L 21/66
Patent cited by the Patent:
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