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J-GLOBAL ID：200903039256209275

レーザ集光光学系

Inventor：
吉田 剛洋

About 吉田 剛洋


Applicant, Patent owner：
オリンパス光学工業株式会社

About オリンパス光学工業株式会社


Agent (1)： 韮澤 弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999345678
Publication number (International publication number)：2001166213
Application date： Dec. 06, 1999
Publication date： Jun. 22, 2001
Summary：
【要約】【課題】 集光位置を光軸方向に走査するのに機械的機構を用いず、パワーを可変にできる波面変換素子を用いて行い、その際発生する収差を波面変換素子で相殺し、光軸方向走査に伴う集光性能の低下を低減させるレーザ集光光学系。【解決手段】 レーザ光源から出射されたレーザビーム301をコリメートする光学系302と、レーザビームを標本312上に集光する対物レンズ310とを備えたレーザ集光光学系において、対物レンズ310と標本312の距離を相対的に変わらないようにして光軸方向の集光位置を変えていく際に、対物レンズ瞳位置311又はその近傍において、光線が入射する領域の90%以上の領域で形成される波面形状が、対物レンズ瞳面311と共役な位置又はその近傍に配置された波面変換素子304によって所定の条件を満たすように変形されている。
Claim (excerpt)：
レーザ光源と、該レーザ光源から出射されたレーザビームを適切なビーム径にコリメートする光学系と、前記レーザビームを標本上に集光する対物レンズとを備えたレーザ集光光学系において、前記対物レンズと標本の距離を相対的に変わらないようにして光軸方向の集光位置を変えていく際に、対物レンズの瞳位置又はその近傍において、光線が入射する領域の90%以上の領域で形成される波面形状が、前記対物レンズの瞳面と共役な位置又はその近傍に配置された波面変換素子によって下記の条件1〜4を満たすように変形されていることを特徴とするレーザ集光光学系。集光位置が対物レンズから遠ざかる場合、条件1:波面形状は中心から瞳周辺部に向かい単調に減少する;条件2:波面形状は上に凸の形状である;集光位置が対物レンズに近づく場合、条件3:波面形状は中心から瞳周辺部に向かい単調に増加する;条件4:波面形状は下に凸の形状である;ただし、光源から標本に向かう向きを正の向きとし、また、対物レンズの瞳位置は、標本側を前側としたときの後側焦点位置である。
F-Term (5)：
2H087KA09 ,  2H087LA24 ,  2H087TA01 ,  2H087TA03 ,  2H087TA06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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