Pat
J-GLOBAL ID：200903039259852519
光触媒被膜形成用表面処理剤及びこの表面処理剤を用いた光触媒被膜の形成方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小山 有 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997325523
Publication number (International publication number)：1999158456
Application date： Nov. 27, 1997
Publication date： Jun. 15, 1999
Summary：
【要約】【課題】 汚れが付着している既存の基材や合成樹脂からなる基材の表面に、親水性を発揮する光触媒被膜を形成する。【解決手段】 ヒドロキシアルコキシセルロースと、コロイドを形成する無機酸化物とを水に分散させた表面処理剤を、基材の表面に塗布すると、基材の表面はある程度親水化せしめられる。そこで、この親水化された表面に光触媒コーティング液を塗布することで、基材表面に対する結合力に優れた光触媒層が得られる。
Claim (excerpt)：
基材の表面に光触媒被膜を形成する前に、当該表面の前処理を行うために塗布する表面処理剤であって、この表面処理剤はヒドロキシアルコキシセルロースと、コロイドを形成する無機酸化物とを水に分散させてなることを特徴とする光触媒被膜形成用表面処理剤。
IPC (7)：
C09K 3/00
, B01J 35/02
, C01G 23/047
, C08L 1/28
, C09D 5/00
, C08J 7/04
, C08J 7/06
C09K 3/00 R
, B01J 35/02 J
, C01G 23/047
, C08L 1/28
, C09D 5/00 D
, C08J 7/04 T
, C08J 7/06 Z
