ナノ粒子の生成および堆積方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：三好秀和 , 伊藤正和 , 原裕子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007158187
Publication number (International publication number)：2008012658
Application date： Jun. 15, 2007
Publication date： Jan. 24, 2008
Summary：

【課題】本発明は、固体ターゲット材料の超高速パルスレーザ融除を利用して、選択したサイズのナノ粒子を生成し、これを基板表面上に堆積させるためのワンステップ工程を提供する。【解決手段】このシステムはパルスレーザ、光学系、及び真空室を含む。パルスレーザは数フェムト秒から数十ピコ秒までの多様なパルス時間を有する。光学系は、ビームを適切な平均エネルギー密度および適切なエネルギー密度分布にてターゲット表面上に集束できるようにレーザビームを成形する。真空室の内部にはターゲットと基板が設置され、バックグラウンドガスとその圧力が適切に調整される。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

材料の超高速パルスレーザアブレーションを行うための超高速パルスレーザを使用して、ナノ粒子、メソ粒子、又はこれらの混合物を生成し堆積させる方法であって、前記レーザのフルエンスを制御することで、前記混合物中のナノ粒子とメソ粒子の相対比率を制御することを特徴とする方法。

IPC (6)：

B82B 3/00 , C01B 13/14 , C01G 51/04 , C01G 53/04 , H01S 3/00 , C23C 14/28

FI (6)：

B82B3/00 , C01B13/14 Z , C01G51/04 , C01G53/04 , H01S3/00 B , C23C14/28

F-Term (23)：

4G042DA01 , 4G042DB01 , 4G042DB08 , 4G042DB16 , 4G042DB35 , 4G042DD02 , 4G042DD04 , 4G042DD13 , 4G042DE02 , 4G042DE03 , 4G042DE12 , 4G048AA02 , 4G048AB01 , 4G048AD02 , 4G048AD03 , 4G048AE05 , 4K029AA22 , 4K029BA51 , 4K029CA01 , 4K029DB05 , 4K029DB20 , 4K029DD06 , 5F172ZZ01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

米国特許出願公開第2006/0049034号明細書
米国特許出願公開第2006/0049547号明細書
欧州特許出願公開第1308418号明細書

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

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