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J-GLOBAL ID：200903039285707705

研磨体

Inventor： 石黒 忠 ,  藤山 正昭 ,  両毛 克己
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 柳田 征史 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995103931
Publication number (International publication number)：1996294873
Application date： Apr. 27, 1995
Publication date： Nov. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】 チッピングの発生を防止しつつ高い研磨力を有する研磨層を形成するとともに、良好な湿式研磨を可能とする。【構成】 主たる研磨剤21と結合剤22からなる研磨層20を支持体10上に有してなり、主たる研磨剤の平均粒子サイズが3〜15μmであり、前記研磨層表面の中心線平均表面粗さRaが0.5〜2.5μmでかつ水との接触角が20〜50度の範囲に設けてなる。

Claim (excerpt)：

主たる研磨剤と結合剤からなる研磨層を支持体上に有してなる研磨体において、前記主たる研磨剤の平均粒子サイズが3〜15μmであり、前記研磨層表面の中心線平均表面粗さRaが0.5〜2.5μmでかつ水との接触角が20〜50度の範囲であることを特徴とする研磨体。

IPC (3)：

B24D 11/00 ,  G11B 5/127 ,  G11B 5/84

FI (3)：

B24D 11/00 A ,  G11B 5/127 Q ,  G11B 5/84 A