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J-GLOBAL ID：200903039288040809

ハイブリツドシリカゲルの製造方法

Inventor： 松田 麗子 ,  山口 真男 ,  岡本 秀則
Applicant, Patent owner： 徳山曹達株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991309422
Publication number (International publication number)：1993140313
Application date： Nov. 25, 1991
Publication date： Jun. 08, 1993
Summary：

【要約】【構成】 テトラエトキシシラン、フェニルメトキシシラン等のシリコンアルコキシドと、分子内にアルコキシシリル基を有するフォトクロミック化合物とを共加水分解、縮合することを特徴とするフォトクロミック性を示すハイブリッドシリカゲルの製造方法。【効果】 フォトクロミック性を示す有機化合物がシリカゲルと化学的に結合しているため、フォトクロミック化合物が有機溶媒等に溶出し難いだけでなく、アルコキシシリル基を有さないフォトクロミック化合物をシリカゲル中にドープした場合にくらべて、フォトクロミック材として高い耐久性を示す。

Claim (excerpt)：

一般式(1)または(2)Si(OR1 )4 (1)(式中、R1 はアルキル基を示す。)R2 n Si(OR3 )4-n (2)(式中、R2 はアルキル基、アルケニル基、またはフェニル基を示し、R3 はアルキル基を示し、nは1または2の整数を示す。)で表されるシリコンアルコキシドのいづれか一方と、アルコキシシリル基を有するフォトクロミック化合物とを共加水分解、縮合することを特徴とするフォトクロミックハイブリッドシリカゲルの製造方法。

IPC (5)：

C08G 77/02 NTZ ,  C01B 33/12 ,  C03C 4/06 ,  C08G 77/04 ,  C08G 77/26 NUJ