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J-GLOBAL ID：200903039289836860

新規表面変性方法

Inventor： ラーソン,カール-グンナー ,  ペターソン,アルフ・ライェー ,  ヘドルンド,スティグ・トマス ,  フォッシュリング,ヴィリス・ルドルフ ,  グンネリウソン,ラッシュ・アンデッシュ ,  リンドバリィ,マッツ・エイナール・エウイェン ,  セリング,アンナ
Applicant, Patent owner： クプトロニック・アクチボラゲット
Agent (1)： 青山 葆 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1998532783
Publication number (International publication number)：2001509213
Application date： Jan. 27, 1998
Publication date： Jul. 10, 2001
Summary：

【要約】光開始剤および紫外線照射を使用するにおいて、明瞭に区画されたパターン(distinct pattern)中の非導電性基材の表面に好適なモノマー類を選択的に植え付けることができる。その後金属イオン類がモノマー類によって吸着され還元される。次にこのパターンに更に、導電性材料、例えば金属類が従来の方法で添加される。本発明の方法は高解像度を持つ回路基板を製造する全添加方法および非導電性基材上に機能成分を直接形成することを含む。

Claim (excerpt)：

有機質基材または有機材料の表面層を有する少なくともひとつの表面を含む基材上に明瞭に区画されたパターン(distinct pattern)状に導電材料を適用する方法にして、該表面層が該明瞭に区画されたパターンに応じた明瞭に区画された(distinct)接着領域を形成するように化学的に変性され、次いで導電物質(類)がこの領域に適用されることを特徴とする方法。

IPC (2)：

C23C 26/00 ,  H05K 3/38

FI (2)：

C23C 26/00 B ,  H05K 3/38 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 特開平4-259381
  
• 特開平2-125881
  
• 特開平1-242782
  
• 特開昭58-113366
  
• 特開昭58-196238
  
• 特開平4-231474