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J-GLOBAL ID：200903039310683123

ウエハの異物検出受光系

Inventor： 谷内 俊明 ,  芝 正孝
Applicant, Patent owner： 日立電子エンジニアリング株式会社 ,  株式会社日立製作所
Agent (1)： 梶山 佶是 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994132519
Publication number (International publication number)：1995318504
Application date： May. 23, 1994
Publication date： Dec. 08, 1995
Summary：

【要約】【目的】 回転ミラーによる走査方法における、走査幅YL とその周辺よりの迷光を排除し、スポットSP の散乱光LR のみを受光してS/N比を向上する。【構成】 集光レンズ321 と受光器322 の間にそれぞれ配設され、投光系31の回転ミラー313 と同期回転し、集光レンズ321 により集光されたスポットSP の散乱光LR を反射する回転ミラー324 と、これを回転するモータ325 、異物によるスポットSP の散乱光LR が透過し、迷光を遮断するスリット板326 とを設けて構成される。

Claim (excerpt)：

光源よりのレーザビームを回転ミラーにより角度掃引して、集束レンズによりスポットに集束し、XY移動ステージに載置されたウエハの表面に対して、該スポットをY方向の走査幅YL の範囲に投射してX方向を順次に走査し、該ウエハをY方向に該走査幅YL づつ移動してその全面を走査する投光系、および、該スポットの散乱光を集光する集光レンズと、該集光された散乱光を受光する受光器よりなる受光系とを具備する異物検査装置において、前記集光レンズと受光器の間にそれぞれ配設され、前記投光系の回転ミラーと同期回転し、該集光レンズにより集光された前記スポットの散乱光を反射する受光系の回転ミラーと、該反射されたスポットの散乱光を透過し、前記走査幅YL とその周辺よりの迷光を遮断するスリット板とを設けて構成されたことを特徴とする、ウエハの異物検出受光系。

IPC (2)：

G01N 21/88 ,  H01L 21/66