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J-GLOBAL ID：200903039321803902
純水の製造方法及び装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
谷山 輝雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991257291
Publication number (International publication number)：1993096277
Application date： Oct. 04, 1991
Publication date： Apr. 20, 1993
Summary：
【要約】【目的】 純水あるいは超純水中の非イオン性のシリカ成分を可及的に少なくすることができる純水の製造方法及び装置を提供する。【構成】 水に含まれていて、そのままではモリブデン酸試薬に反応しない非イオン性のシリカ成分を、オゾンと接触反応させ、この反応工程と同時又はこの反応工程の後に紫外線を照射してイオン化させ、イオン交換樹脂塔に通す。このイオン交換樹脂搭を通った処理水は、非イオン性のシリカ成分を実質的に含まない。
Claim (excerpt)：
水中に含まれていて、そのままではモリブデン酸試薬に反応しない非イオン性のシリカ成分をイオン化させる工程と、このイオン化したシリカ成分を固体電解質に吸着して水中から除去する工程とを有することを特徴とする純水の製造方法。
IPC (5)：
C02F 1/42
, C02F 1/20
, C02F 1/32
, C02F 1/78
, C02F 9/00
