Pat

J-GLOBAL ID：200903039322611870

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 藤森 亨 ,  丹 史郎 ,  中尾 元
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000332955
Publication number (International publication number)：2002139839
Application date： Oct. 31, 2000
Publication date： May. 17, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 定在波の発生の軽減、更に感度、解像力、パターンプロファイルの形状も優れたポジ型感光性組成物を提供すること。【解決手段】 活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び一般式(I)で示されるフッ素原子を含有する化合物を含有するポジ型感光性組成物。(式中、Rはフッ素原子を含有する炭化水素基を表す。Xは、フッ素原子を含有しない2価の連結基を表す。)

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を、主鎖または側鎖に有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)下記一般式(I)で示される構造を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】一般式(I)中、Rはフッ素原子を含有する炭化水素基を表す。Xは、フッ素原子を含有しない2価の連結基を表す。

IPC (8)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/095 ,  C08K 5/16 ,  C08L 57/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/027

FI (8)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/095 ,  C08K 5/16 ,  C08L 57/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (47)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB20 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  4J002BG031 ,  4J002BG071 ,  4J002BG081 ,  4J002BH021 ,  4J002BK001 ,  4J002BQ001 ,  4J002CE001 ,  4J002EB116 ,  4J002EB126 ,  4J002EB146 ,  4J002EF037 ,  4J002EH038 ,  4J002EH126 ,  4J002EJ028 ,  4J002EN019 ,  4J002ER009 ,  4J002ER029 ,  4J002ES006 ,  4J002EU139 ,  4J002EU186 ,  4J002EU216 ,  4J002EU239 ,  4J002EV047 ,  4J002EV226 ,  4J002EV256 ,  4J002EV296 ,  4J002EV306 ,  4J002EV326 ,  4J002FD206 ,  4J002FD310 ,  4J002GP03