ダイヤモンド状炭素膜作製方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000056708
Publication number (International publication number)：2000226664
Application date： Oct. 11, 1988
Publication date： Aug. 15, 2000
Summary：

【要約】【課題】部材上に炭素でなる保護膜を密着性良く形成する。【解決手段】部材上に下地被膜を形成し、下地被膜上にダイヤモンド状炭素膜を形成する際に、下地被膜と、炭素膜を同じ反応容器内で形成し、炭素膜を形成した後酸素のプラズマを発生して、反応容器内の炭素または炭素を主成分とする被膜をエッチングする。

Claim (excerpt)：

部材上に下地被膜を形成する第一の工程と、前記下地被膜上にダイヤモンド状炭素膜を形成する第二の工程とを同じ反応容器で行い、前記第二の工程の後に、前記反応容器内で酸素のプラズマを発生して、前記反応容器内の炭素または炭素を主成分とする被膜をエッチングすることを特徴とするダイヤモンド状炭素膜作製方法。

IPC (2)：

C23C 16/27 , B32B 9/00

FI (2)：

C23C 16/27 , B32B 9/00 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (22)

特開昭62-196371
特開昭62-196371
特開昭63-210275

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