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J-GLOBAL ID:200903039389151059
工業用プロセス制御システムにおける診断システムおよび方法
Inventor:
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,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
田中 香樹
, 平木 道人
, 田邉 壽二
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2008505445
Publication number (International publication number):2008535123
Application date: Apr. 04, 2006
Publication date: Aug. 28, 2008
Summary:
工業用プロセス制御および監視システムの動作を診断するための装置は、プロセス信号に関連した入力を受信するように構成された入力部を含む。第1の統計的パラメータモジュール(100)はプロセス信号の統計的パラメータに関連した第1の統計的パラメータ出力を提供する。フィルタ(104)はプロセス信号のフィルタ値に関連するフィルタ出力(106)を提供する。第2の統計的パラメータモジュール(100)はフィルタ出力(106)の統計的パラメータに関連する第2の統計的パラメータ出力を提供する。診断モジュールは第1及び第2の統計的パラメータに基づいて工業用プロセスの動作を診断する。
Claim (excerpt):
工業用プロセス制御または監視システムの動作を診断する装置において、
プロセス信号に関連する入力を受信するように構成された入力部と、
プロセス信号の統計的パラメータに関連する第1の統計的パラメータ出力を提供するように構成された第1の統計的パラメータモジュールと、
プロセス信号のフィルタ値に関連するフィルタ出力を提供するフィルタと、
フィルタ出力の統計的パラメータに関連する第2の統計的パラメータ出力を提供するように構成された第2の統計的パラメータモジュールと、
前記第1および第2の統計的パラメータに基づく工業用プロセスの動作を診断するように構成された診断モジュールとからなる診断装置。
IPC (1):
FI (2):
G05B23/02 V
, G05B23/02 302S
F-Term (5):
5H223AA01
, 5H223BB01
, 5H223DD03
, 5H223DD07
, 5H223EE30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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プロセスデータ監視装置および監視方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-194374
Applicant:株式会社東芝
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事象感知のためのプロセスシステム内の装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平9-534432
Applicant:ローズマウントインコーポレイテッド
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