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J-GLOBAL ID：200903039399087286
薄膜の製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
奈良 武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994275840
Publication number (International publication number)：1996109471
Application date： Oct. 13, 1994
Publication date： Apr. 30, 1996
Summary：
【要約】【目的】 スパッタリング法により薄膜を高速に形成することのできる薄膜の製造方法を提供することを目的とする。【構成】 固体状の膜原料の温度を上昇せしめ、前記膜原料から発生した蒸気に、加速されたイオンを衝突させることにより、前記イオンに衝突され加速された前記膜原料が基板に到達し、基板上に膜を形成する。
Claim (excerpt)：
固体状の膜原料の温度を上昇せしめ、前記膜原料から発生した蒸気に、加速されたイオンを衝突させることにより、前記イオンに衝突され加速された前記膜原料が基板に到達し、基板上に膜を形成することを特徴とする薄膜の製造方法。
IPC (3)：
C23C 14/34
, C30B 23/08
, G02B 1/10
Cited by examiner (6)
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