Pat
J-GLOBAL ID：200903039424462194
中性子発生装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
志賀 正武 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994054197
Publication number (International publication number)：1995249498
Application date： Mar. 24, 1994
Publication date： Sep. 26, 1995
Summary：
【要約】【目的】 ターゲット物質が沸騰してしまうことを防止し得て中性子を安定に発生させ得る中性子発生装置を提供する。【構成】 荷電粒子ビームdをビームダクト7から入射孔8を通して反応槽4に入射させてターゲット物質1に打ち込み、そこで核反応を生ぜしめて中性子ビームnを発生させる。ビームダクトおよび反応槽からの真空排気は、ビームダクトに接続した真空排気手段9により行なう。入射孔にはオリフィスパイプ10を接続しておき、そのオリフィスパイプを通して荷電粒子ビームを入射させるとともに、オリフィスパイプの排気抵抗により反応槽とビームダクトとの間に差圧が生じるようにし、反応槽内の真空度をビームダクト内の真空度を低く設定する。また、オリフィスパイプ10に代えて、複数のオリフィス板により差動排気構造としてもよい。
Claim (excerpt)：
液体状のターゲット物質に対して加速した荷電粒子を打ち込むことによって、それらターゲット物質と荷電粒子とによる核反応により中性子を発生させる構成の装置であって、前記ターゲット物質を膜状態で流下させるための反応槽と、該反応槽に接続されてその接続部に設けられている入射孔を通して前記荷電粒子を反応槽内に入射させるためのビームダクトと、該ビームダクトに接続されていてこのビームダクトおよび前記入射孔を通して前記反応槽内の真空排気を行なうための真空排気手段とを具備し、前記入射孔には、前記荷電粒子を通過させ得る径寸法とされているとともに反応槽内とビームダクト内に差圧を保持し得る長さ寸法とされたオリフィスパイプを接続してなることを特徴とする中性子発生装置。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
Show all
Return to Previous Page
