光導波路デバイスおよびその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：京本直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999229465
Publication number (International publication number)：2001051143
Application date： Aug. 13, 1999
Publication date： Feb. 23, 2001
Summary：

【要約】【課題】コアの下部クラッド層への沈み込みや傾き等がなく、偏光依存性が極めて小さい石英系光導波路デバイスを再現性よく高歩留まりで作製することを目的とする。【解決手段】Si基板上に形成された下部クラッド層、コア、上部クラッド層よりなる石英系光導波路において下部クラッド層及び上部クラッド層がBPSG膜によって形成されている。コア下部には下層クラッド層の軟化によるコアの沈み込みや傾きを抑えるために軟化温度の比較的高い2層以上の沈み込み防止層が形成されている。

Claim (excerpt)：

シリコン基板上に下部クラッド層、コア、上部クラッド層をする光導波路デバイスにおいて、前記下部クラッド層と前記コアの間に燐及びボロンの少なくともいずれかを添加した石英系膜であって、前記上部クラッド層よりも軟化温度が高い材料からなる沈み込み防止層を有することを特徴とする光導波路デバイス。

IPC (3)：

G02B 6/122 , C03B 19/14 , G02B 6/12

FI (3)：

G02B 6/12 A , C03B 19/14 A , G02B 6/12 N

F-Term (11)：

2H047KA04 , 2H047LA01 , 2H047LA11 , 2H047PA00 , 2H047PA21 , 2H047PA24 , 2H047QA04 , 2H047RA00 , 2H047TA00 , 2H047TA42 , 4G014AH15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平1-094304
石英系光導波路及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-322903 Applicant：日本電信電話株式会社
特開平3-075606

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