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J-GLOBAL ID:200903039463431484

シリカ系填料の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998273601
Publication number (International publication number):2000096487
Application date: Sep. 28, 1998
Publication date: Apr. 04, 2000
Summary:
【要約】【課題】 安価なケイ酸ナトリウム等を原料として使用し、簡便に、効率良く、空隙の多いシリカ系填料を製造する方法を提案することを課題とする。また、その填料を配合した紙に優れた印刷後不透明度を付与し得るシリカ系填料を提供することを課題とする。【解決手段】 ケイ酸アルカリ水溶液に鉱酸を添加して中和することによりシリカを析出せるシリカ系填料の製造方法において、平均直径が0.1〜10μmの微細気泡の存在下でシリカを析出させる。気泡は機械的撹拌を施すことにより発生できる。
Claim (excerpt):
ケイ酸アルカリ水溶液に鉱酸を添加して中和することによりシリカを析出せるシリカ系填料の製造方法において、平均直径が0.1〜10μmの微細気泡の存在下でシリカを析出させることを特徴とするシリカ系填料の製造方法。
IPC (2):
D21H 17/68 ,  C01B 33/143
FI (2):
D21H 17/68 ,  C01B 33/143
F-Term (17):
4G072AA25 ,  4G072GG03 ,  4G072HH21 ,  4G072JJ13 ,  4G072JJ15 ,  4G072KK15 ,  4G072LL06 ,  4G072LL07 ,  4G072MM01 ,  4G072MM02 ,  4G072RR06 ,  4G072UU07 ,  4G072UU25 ,  4L055AG18 ,  4L055AG94 ,  4L055AH01 ,  4L055FA12

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