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J-GLOBAL ID：200903039464069290

ICP光源装置

Inventor： 岡田 幸治
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 西岡 義明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000223413
Publication number (International publication number)：2002039944
Application date： Jul. 25, 2000
Publication date： Feb. 06, 2002
Summary：

【要約】【課題】 プラズマチェンバを冷却するにあたって、冷却のための装置を特別に用意しなくてもプラズマチェンバを冷却できるICP光源装置を提供する。【解決手段】 プラズマトーチ2にクーラントガスを供給するクーラントガス導入管6をプラズマチェンバ1に取り付けられた冷却ブロック10中に、プラズマチェンバ1の外周を巻回するようにして埋設すると共に、クーラントガスを断熱膨張させる手段として、その圧力を定める電磁マスフロー(定差圧調整弁)12aをプラズマチェンバ1に近接して、即ち巻き付け開始直前のクーラントガス導入管6に配設し、クーラントガスが断熱膨張する際の温度低下を利用することによってプラズマチェンバ1を冷却する。

Claim (excerpt)：

プラズマチェンバで溶液試料を霧化してプラズマトーチに導入し、高周波誘導結合放電によって励起発光等を行うICPのための光源装置において、前記プラズマトーチに供給されるクーラントガスの導入管を前記プラズマチェンバ外周に巻き付けると共に、その巻き付け直前の同導入管にクーラントガスを断熱膨張させる手段を設けたことを特徴とするICP光源装置。

IPC (4)：

G01N 21/73 ,  G01N 27/62 ,  H05H 1/28 ,  H05H 1/30

FI (4)：

G01N 21/73 ,  G01N 27/62 G ,  H05H 1/28 ,  H05H 1/30

F-Term (7)：

2G043AA01 ,  2G043CA01 ,  2G043EA08 ,  2G043GA06 ,  2G043GA19 ,  2G043GB07 ,  2G043JA01