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J-GLOBAL ID：200903039486044550

洗浄用化粧品組成物及びその使用

Inventor： レスル,セルジュ ,  ガルニエ,ナタリー
Applicant, Patent owner： ロレアル
Agent (1)： 園田 吉隆 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000596902
Publication number (International publication number)：2002536311
Application date： Feb. 04, 2000
Publication date： Oct. 29, 2002
Summary：

【要約】本発明は、化粧品的に許容可能な媒体に、少なくとも1種のアニオン性界面活性剤、少なくとも1種の両性界面活性剤、少なくとも1種の選択された水不溶性カルボン酸エステルを含有せしめてなり、該エステルの炭素原子の全数が、該エステルが不飽和でない場合は27、少なくとも1つの不飽和を有する場合は50を越えず、エステルの濃度が1%を越え、アニオン性界面活性剤/両性界面活性剤の比が3以下である、新規な洗浄及びコンディショニング用化粧品組成物に関する。本発明は毛髪及び皮膚のクレンジング及び手入れに有用である。

Claim (excerpt)：

化粧品的に許容可能な水性媒体に、(A)少なくとも1種のアニオン性界面活性剤と少なくとも1種の両性界面活性剤を含有する洗浄基剤と、(B)1)- 飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のモノカルボン酸と飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のモノアルコールとのモノエステル、2)- 飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のジ-又はトリカルボン酸と飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のモノアルコールとのジ-又はトリエステル、3)- 飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のジ-又はトリカルボン酸と飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のジアルコールとのモノ、ジ-又はトリエステル、4)- 飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のモノカルボン酸と飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のジアルコールとのモノエステル、5)- 飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のモノカルボン酸と任意の種類の不飽和ジアルコール又は4を越える炭素原子を有する飽和ジアルコールとのジ-又はトリエステル、6)- 飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のモノカルボン酸と飽和トリアルコールとのモノ-又はジエステル、7)- 飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のモノカルボン酸と3を越える炭素原子を有する飽和トリアルコールとのトリエステル、8)- 飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のモノカルボン酸と不飽和トリアルコールとのモノ-、ジ-又はトリエステル、9)- 飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のジ-又はトリカルボン酸と飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のトリアルコールとのモノ-、ジ-又はトリエステル、から選択される少なくとも1種の水不溶性カルボン酸エステルを含有してなり、 前記エステルの炭素原子の全数が、該エステルが不飽和でない場合は27、少なくとも1つの不飽和を有する場合は50を越えず、 前記エステルの濃度が1%より大きく、 カチオン性界面活性剤を含有せず、 アニオン性界面活性剤/両性界面活性剤の重量比が3以下であることを特徴とする洗浄及びコンディショニング用化粧品組成物。

IPC (9)：

A61K 7/075 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/50 ,  C11D 3/04 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/37 ,  C11D 3/38 ,  C11D 3/382 ,  C11D 10/02

FI (9)：

A61K 7/075 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/50 ,  C11D 3/04 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/37 ,  C11D 3/38 ,  C11D 3/382 ,  C11D 10/02

F-Term (63)：

4C083AB331 ,  4C083AB332 ,  4C083AB341 ,  4C083AB361 ,  4C083AC071 ,  4C083AC091 ,  4C083AC101 ,  4C083AC111 ,  4C083AC121 ,  4C083AC171 ,  4C083AC241 ,  4C083AC261 ,  4C083AC301 ,  4C083AC341 ,  4C083AC342 ,  4C083AC351 ,  4C083AC352 ,  4C083AC371 ,  4C083AC372 ,  4C083AC391 ,  4C083AC421 ,  4C083AC641 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AD091 ,  4C083AD111 ,  4C083AD131 ,  4C083AD132 ,  4C083AD151 ,  4C083AD211 ,  4C083AD261 ,  4C083AD411 ,  4C083AD611 ,  4C083BB05 ,  4C083BB07 ,  4C083BB46 ,  4C083BB53 ,  4C083CC23 ,  4C083CC33 ,  4C083CC38 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083EE01 ,  4C083EE07 ,  4H003AB03 ,  4H003AB31 ,  4H003AD04 ,  4H003DA02 ,  4H003EA08 ,  4H003EA12 ,  4H003EA19 ,  4H003EB04 ,  4H003EB05 ,  4H003EB08 ,  4H003EB09 ,  4H003EB28 ,  4H003EB37 ,  4H003EB42 ,  4H003EB44 ,  4H003ED02 ,  4H003FA21 ,  4H003FA33 ,  4H003FA34

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 皮膚洗浄料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-169028   Applicant：株式会社資生堂
• 毛髪洗浄料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-095150   Applicant：株式会社資生堂
• 特開昭63-154609