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J-GLOBAL ID：200903039499503600

磁気記録媒体の製造方法

Inventor： 千葉 一信 ,  佐藤 研一
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992316519
Publication number (International publication number)：1994150315
Application date： Oct. 31, 1992
Publication date： May. 31, 1994
Summary：

【要約】【構成】 非磁性支持体上に磁性薄膜を形成した後、雰囲気ガスを原子量20以下のガスと原子量20以上のガスとの混合ガスとし、且つ、前記原子量20以下のガスの流量を合計50モル%以下としてスパッタリングを行って保護膜を形成する。雰囲気ガスとしては、Arと、He,H2 ,N2 ,Kr,Xeから選ばれる少なくとも1種以上とを混合したものを用いる。【効果】 保護膜の成膜速度が速く生産性に優れ、作製された磁気記録媒体は優れたスチル耐久性と防錆特性を有するものとなる。

Claim (excerpt)：

非磁性支持体上に磁性薄膜を形成した後、スパッタ法により保護膜を形成する磁気記録媒体の製造方法において、雰囲気ガスを原子量20以下のガスと原子量20以上との混合ガスとし、且つ、前記原子量20以下のガスの流量を合計50モル%以下としてスパッタリングを行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

IPC (3)：

G11B 5/85 ,  C23C 14/34 ,  G11B 5/84

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平3-071419
  
• 特開平4-129029
  
• 特開昭57-145977
  
• 特開平1-166321
  
• 特開平1-257198