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J-GLOBAL ID：200903039531690990
洗浄方法及び装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995000904
Publication number (International publication number)：1996187476
Application date： Jan. 06, 1995
Publication date： Jul. 23, 1996
Summary：
【要約】【目的】 本発明は、洗浄処理が極めて短時間で済み、しかも洗浄効果の高い洗浄方法及び装置を提供することを目的とする。【構成】 槽の上から下に均一な洗浄液の流れを形成する引き抜き式洗浄槽と、該洗浄液を大気と遮断するための上蓋と、該上蓋に配設した超音波振動素子とを有し、前記洗浄槽内に設置した被洗浄物に向けて前記洗浄液を下方に流しながら、超音波を下方に照射して被洗浄物を洗浄することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
洗浄槽の上から下に均一な洗浄液の流れを形成し、該洗浄槽の上部から、前記洗浄槽内に設置した被洗浄物に向けて超音波を照射して洗浄を行うことを特徴とする洗浄方法。
IPC (4)：
B08B 3/12
, B08B 3/10
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304
