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J-GLOBAL ID:200903039598919266

溶存酸素の除去方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 内山 充
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995119366
Publication number (International publication number):1996290007
Application date: Apr. 20, 1995
Publication date: Nov. 05, 1996
Summary:
【要約】【構成】溶存酸素含有水に窒素ガスを接触させて溶存酸素を除去し、除去した酸素が混入した使用済みの窒素ガスに水素源を供給し、貴金属触媒層を通して酸素と水素の反応により酸素を水に変換して除去し、窒素ガスを循環再使用する水中の溶存酸素の除去方法において、水素の供給量が混入している酸素との反応当量の1〜3倍であり、触媒層の温度が60〜100°Cであり、窒素ガスの触媒層空間速度が1,000〜10,000hr-1であり、触媒層出口の窒素ガス中の酸素濃度が30ppm(容量比)以下であり、使用する窒素ガス量の被処理水量に対する比が1.5〜10倍(Nm3/m3)であることを特徴とする溶存酸素の除去方法。【効果】本発明方法によれば、高純度窒素ガスを循環再使用することにより溶存酸素含有水の窒素脱気を行い、小型の装置により、従来法では達成することができなかった溶存酸素濃度5ppb(重量比)以下の処理水を容易に得ることができる。
Claim (excerpt):
溶存酸素含有水に窒素ガスを接触させて溶存酸素を除去し、除去した酸素が混入した使用済みの窒素ガスに水素源を供給し、貴金属触媒層を通して酸素と水素の反応により酸素を水に変換して除去し、窒素ガスを循環再使用する水中の溶存酸素の除去方法において、水素の供給量が混入している酸素との反応当量の1〜3倍であり、触媒層の温度が60〜100°Cであり、窒素ガスの触媒層空間速度が1,000〜10,000hr-1であり、触媒層出口の窒素ガス中の酸素濃度が30ppm(容量比)以下であり、使用する窒素ガス量の被処理水量に対する比が1.5〜10倍(Nm3/m3)であることを特徴とする溶存酸素の除去方法。
IPC (3):
B01D 19/00 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/58
FI (3):
B01D 19/00 F ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/58 T
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 特開昭59-054608

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