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J-GLOBAL ID:200903039603635344

ブラックマトリックス基板およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石川 泰男 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992168818
Publication number (International publication number):1993303090
Application date: Jun. 26, 1992
Publication date: Nov. 16, 1993
Summary:
【要約】【目的】 液晶ディスプレイ等のフラットディスプレイ、CCD等のイメージャー、あるいはカラーセンサ等のカラーフィルタに用いることのできる寸法精度が高く遮光性に優れ反射率の低いブラックマトリックス基板、および、そのようなブラックマトリックス基板を低コストで製造することのできる製造方法を提供する。【構成】 透明基板上にブラックマトリックス用パターンを有する親水性樹脂を含有したレリーフを形成し、このレリーフを無電解メッキ液に接触させレリーフ内に略均一に金属粒子を析出させることによりブラックマトリックス用パターンを有する遮光層を形成してブラックマトリックス基板とする。
Claim (excerpt):
透明基板と、該透明基板上に形成された内部に金属粒子を含有する遮光層とを有することを特徴とするブラックマトリックス基板。
IPC (3):
G02F 1/1335 ,  G02B 5/20 101 ,  H04N 5/66 102
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 特開昭57-104928
  • 特開平4-090501
Cited by examiner (2)
  • 特開平4-090501
  • 特開昭57-104928

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