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J-GLOBAL ID：200903039615973920

有機電子写真感光体の製造方法

Inventor： 森田 竜廣 ,  下田 嘉英 ,  忍 充弘 ,  黒川 誠 ,  新居 和幸
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 川口 義雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993035083
Publication number (International publication number)：1994250412
Application date： Feb. 24, 1993
Publication date： Sep. 09, 1994
Summary：

【要約】【目的】 高感度、高耐刷性対応の、電荷発生層(膜厚〜0.1μm以下)の浸漬塗布においてもすじ状の塗布ムラが発生せず、均一で良質な画像特性を有する機能分離型の有機電子写真感光体の提供。【構成】 機能分離型の有機電子写真感光体をオーバーフロー方式での浸漬塗布法により形成する際、塗布槽内径:2R(mm)円筒状導電性基体径:2r(mm)基体の塗液への浸漬速度:v(mm/sec)と表した時、πr2 /πR2 ×v>5 (但し、R>r+1(mm))で表される関係式を満たす塗布槽、感光体基体、基体浸漬速度を用いる。

Claim (excerpt)：

導電性基体を塗布液に浸漬させて塗布液を塗布槽からあふれさせた後に基体を引上げることで塗布を施し、塗布が完了した後に、このあふれた塗布液を再び塗布槽に供給するオーバーフロー方式での浸漬塗布法により有機電子写真感光体を形成する際、塗布槽内径:2R(mm)円筒状導電性基体径:2r(mm)基体の塗液への浸漬速度:v(mm/sec)と表した時、πr2 /πR2 ×v>5 (但し、R>r+1(mm))で表される関係式を満たす塗布槽、感光体基体、基体浸漬速度を用いたことを特徴とする有機電子写真感光体の製造方法。