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J-GLOBAL ID：200903039617556617
位置ずれ測定装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
日比谷 征彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991276952
Publication number (International publication number)：1993090143
Application date： Sep. 27, 1991
Publication date： Apr. 09, 1993
Summary：
【要約】【目的】 同一物体上の2つの格子パターンの干渉光により格子パターン間の位置ずれを求める。【構成】 レーザー光源3による光束はプリズム20内の偏光ビームスプリット面20aにより偏光方向によって2方向に分岐されて、ミラー面20b、20cによりウエハ1に導光するようにされている。ウエハ1の上面には2つの回折格子2a、2bが格子方向を平行にして設けられている。ウエハ1からの回折光はグラントムソンプリズム10で合波されて干渉され、偏光方向に従って光検出器12、14で検出され、これらの光検出器12、14の出力により位相差計13において位相差が測定され、回折格子2a、2b同志の位置ずれが求まる。特に、ウエハ1とレーザー光の照射光学系との相互位置関係をセンシングする手段が設けられている。
Claim (excerpt)：
同一物体上に第1、第2格子パターンを設け、これらの第1、第2格子パターンに可干渉光を照射する照射光学系と、これらの第1、第2格子パターンから出射される回折光同志を干渉させる干渉光学系と、該干渉光学系による干渉光の位相差を求めることにより前記第1及び第2格子パターン間の相対的な位置ずれを検出する検出部と、前記照射光学系と前記第1、第2格子パターンとのずれを計測するための計測部とを備えたことを特徴とする位置ずれ測定装置。
FI (2)：
H01L 21/30 341 K
, H01L 21/30 341 D
