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J-GLOBAL ID：200903039735891250

搬送室及びそのクリーニング方法

Inventor： 李 秀樹
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 小原 肇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993254682
Publication number (International publication number)：1995086188
Application date： Sep. 17, 1993
Publication date： Mar. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】 搬送室を解体することなく、そのままの状態で内部を構成部材を損ねるこなく完全にクリーニングすることができる搬送室を提供する。【構成】 本搬送室は、半導体ウエハ8を搬送する第1、第2搬送装置9、23を収納する第1、第2搬送室4、16において、これらの搬送室4、16にガス供給口4A、25A及びガス排気口4B、25Bを設け、各ガス供給口4A、25Aにクリーニングガス供給系35を接続し、このクリーニングガス供給系35から第1、第2搬送室4、16内にClF3ガスを供給し、このClF3ガスにより第1、第2搬送室4、16の内部に付着した付着物をクリーニングするように構成されている。

Claim (excerpt)：

被搬送体を搬送する搬送装置が設られた搬送室において、上記搬送室の内部をクリーニングするClF3ガスを供給するクリーニングガス供給手段を上記搬送室に設けたことを特徴とする搬送室。

IPC (3)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511 ,  H01L 21/68

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平4-254349
  
• コールドウォール形処理装置のクリーニング方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-309258   Applicant：東京エレクトロン株式会社