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J-GLOBAL ID:200903039739160617

排ガス処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 坂間 暁 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993263467
Publication number (International publication number):1995116460
Application date: Oct. 21, 1993
Publication date: May. 09, 1995
Summary:
【要約】【目的】 O2 濃度の高い排ガスに対しても性能の低下しない排ガス処理装置を得る。【構成】 入口及び出口を持つ筒状の反応容器5、同反応容器内にガスの流れ方向に面を沿わせて設けられる平板状の第1電極52、同第1電極に対向して設けられ鋸歯状の表面を持った第2電極51、上記第1電極の表面を覆う誘電体53、同誘電体の後流側面上に設けられるカーボン層54、第1電極及び第2電極に接続される電源手段とを設ける。
Claim (excerpt):
入口及び出口を持つ筒状の反応容器と、同反応容器内にガスの流れ方向に面を沿わせて設けられる平板状の第1電極と、同第1電極に対向して設けられ鋸歯状の表面を持った第2電極と、上記第1電極の表面を覆う誘電体と、同誘電体の後流側面上に設けられるカーボン層と、上記第1電極及び第2電極に接続される電源手段とを備えてなることを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (3):
B01D 53/56 ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/34 ZAB
FI (2):
B01D 53/34 129 C ,  B01D 53/34 ZAB

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