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J-GLOBAL ID：200903039746202805

高耐熱性ポリエチレン微多孔膜

Inventor： 長谷川 卓也 ,  近藤 孝彦
Applicant, Patent owner： 旭化成工業株式会社
Agent (1)： 清水 猛 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996181669
Publication number (International publication number)：1998007831
Application date： Jun. 24, 1996
Publication date： Jan. 13, 1998
Summary：

【要約】【課題】 機械強度・透過性・生産性に優れ、過酷な状況下でも電池の安全性を確保できるような極めて高い耐熱性を有するポリエチレン微多孔膜を提供する。【解決手段】 架橋点間分子量が20万以下、収縮残存率が15%以上、気孔率が20〜80%であるポリエチレン微多孔膜。

Claim (excerpt)：

架橋点間分子量が20万以下、収縮残存率が15%以上、気孔率が20〜80%であることを特徴とするポリエチレン微多孔膜。

IPC (4)：

C08J 9/00 CES ,  C08J 9/28 CES ,  H01M 2/16 ,  C08L 23:04

FI (3)：

C08J 9/00 CES A ,  C08J 9/28 CES ,  H01M 2/16 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-185656
  
• 特開平4-185656
  
• 特開平4-185656