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J-GLOBAL ID：200903039759655116

水素吸蔵炭素質材料の製造方法および水素吸蔵炭素質材料製造システム

Inventor： 白石 誠司 ,  梶浦 尚志
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 大石 皓一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000164263
Publication number (International publication number)：2001348216
Application date： Jun. 01, 2000
Publication date： Dec. 18, 2001
Summary：

【要約】【課題】 大量の水素を、効率的に吸蔵させることが可能で、軽量で、繰り返し使用することができ、安全で、資源的、環境的な問題を生じさせる虞のない水素吸蔵炭素質材料の製造方法および水素吸蔵炭素質材料製造システムを提供する。【解決手段】 閉システム内で、炭素質材料を生成し、得られた炭素質材料に前処理を施し、水素を吸蔵させることを特徴とする水素吸蔵炭素質材料の製造方法および水素吸蔵炭素質材料製造システム。

Claim (excerpt)：

閉システム内で、炭素質材料を生成し、得られた炭素質材料に前処理を施し、水素を吸蔵させることを特徴とする水素吸蔵炭素質材料の製造方法。

IPC (5)：

C01B 31/02 101 ,  C01B 31/02 ,  B82B 1/00 ,  C01B 3/00 ,  H01M 8/06

FI (5)：

C01B 31/02 101 Z ,  C01B 31/02 101 F ,  B82B 1/00 ,  C01B 3/00 B ,  H01M 8/06 G

F-Term (7)：

4G040AA12 ,  4G040AA42 ,  4G046CA00 ,  4G046CC02 ,  4G046CC09 ,  5H027AA02 ,  5H027BA13