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J-GLOBAL ID：200903039764049607
気液接触装置およびオゾン水製造装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
三好 秀和 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991288952
Publication number (International publication number)：1993123554
Application date： Nov. 05, 1991
Publication date： May. 21, 1993
Summary：
【要約】【目的】 微細な気泡により気体の逸散損失が少ない優れた気液接触反応を行うこと。【構成】 円柱状の気液接触槽1と、気液接触槽1に液体を噴出し当該液体の噴流による負圧により気体を吸引してこれを噴出液体と共に気液接触槽1に気泡として供給するエゼクタ式ガスノズル9とを用い、エゼクタ式ガスノズル9が気液接触槽1の接線方向に噴射を行うよう、エゼクタ式ガスノズル9の取付方向姿勢を設定する。エゼクタ式ガスノズル9により気体の分散が行われるから、微細気泡が得られ、これによって気液の接触面積が飛躍的に増加する。気液接触槽1にこれの中心軸線周りの横旋回流が生じ、気泡はこの横旋回流に乗って気液接触槽内を旋回するようになり、これにより気泡が気液接触槽1の周壁に衝突する度合が低減され、また気液接触槽1に滞留する時間が延長される。
Claim (excerpt)：
円柱状の気液接触槽と、前記気液接触槽に液体を噴出し当該液体の噴流による負圧により気体を吸引してこれを噴出液体と共に前記気液接触槽に気泡として供給するエゼクタ式ガスノズルとを有し、前記エゼクタ式ガスノズルは前記気液接触槽の接線方向に噴射を行うよう取付方向姿勢を設定されていることを特徴とする気液接触装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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