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J-GLOBAL ID：200903039800811740

研磨装置

Inventor： 大石 明良 ,  堀江 博
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993116257
Publication number (International publication number)：1994320413
Application date： May. 19, 1993
Publication date： Nov. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 スライスした単結晶を研磨する枚葉式研磨装置に関し、特性の向上を目的とする。【構成】 研磨用ヘッドの先端部に研磨布のブラッシング手段とブラッシの内側に研磨剤を供給する手段を備えると共に、回転定盤の回転中心に対し研磨用ヘッドの対称位置に同一の加圧機構をもつドレス用ヘッドを備え、ドレス用ヘッドが下面にドレッシングプレートをもつと共にドレッシングプレートに純水を供給して洗浄する手段を備えており、研磨用ヘッドと連動して揺動回転することを特徴として研磨装置を構成する。

Claim (excerpt)：

回転定盤上に貼着してある研磨布上に研磨剤を供給する手段と、下面に薄層基板を固定してある研磨用ヘッドを研磨布に加圧しながら揺動回転させて前記基板の接触面を研磨する手段を備えてなる研磨装置において、前記研磨用ヘッドが先端部に研磨布のブラッシング手段と該ブラッシの内側に研磨剤を供給する手段を備えると共に、回転定盤の回転中心に対し該研磨用ヘッドの対称位置に同一の加圧機構をもつドレス用ヘッドを備え、該ドレス用ヘッドが下面にドレッシングプレートをもつと共に該ドレッシングプレートに純水を供給して洗浄する手段を備えており、前記研磨用ヘッドと連動して揺動回転することを特徴とする研磨装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-068360
  
• 特開昭63-068360