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J-GLOBAL ID:200903039804085903

レーザ加工法および加工装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 敬四郎 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993138074
Publication number (International publication number):1994344172
Application date: Jun. 10, 1993
Publication date: Dec. 20, 1994
Summary:
【要約】【目的】 レーザ光の照射によってデブリを生じるレーザ加工に関し、デブリの発生を抑止し、レーザ加工の終了と同時に良好な加工表面を得ることのできるレーザ加工技術を提供することを目的とする。【構成】 加工用レーザビーム(11)を第1のビーム(12)と第2(13)のビームに分割する工程と、第1のビーム(12)を第1のパターン、第1のフルーエンスで加工対象物(6)上に照射し、照射面(15)を加工する工程と、第2のビーム(13)を第1のパターンを包む第2のパターン、第1のフルーエンスより低い第2のフルーエンスで第1のビームと同時に加工対象物上に照射し、照射面(16)上で第1のビームの照射によるデブリの形成を抑止する工程とを含む。
Claim (excerpt):
加工用レーザビームを第1のビームと第2のビームに分割する工程と、第1のビームを第1のパターン、第1のフルーエンスで加工対象物上に照射し、照射面を加工する工程と、第2のビームを第1のパターンを包む第2のパターン、第1のフルーエンスより低い第2のフルーエンスで第1のビームと同時に加工対象物上に照射し、照射面上で第1のビームの照射によるデブリの形成を抑止する工程とを含むレーザ加工法。
IPC (3):
B23K 26/16 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平3-086385

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