Pat
J-GLOBAL ID:200903039809245844
リトロー型干渉計
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人オカダ・フシミ・ヒラノ
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006346376
Publication number (International publication number):2007171206
Application date: Dec. 22, 2006
Publication date: Jul. 05, 2007
Summary:
【課題】従来技術のもとでこれまでに行うことができた分解能よりも高い分解能で変位を測定し、制御するための改善された方法及び装置を提供する。【解決手段】干渉計コアに誘導される光ビームを含み、干渉計コアは光ビームを第1の成分のビーム及び第2の成分のビームに分割し、第1の成分のビームはリトロー角で回折格子に誘導され、干渉計コアにより受光され、第2の成分のビームと合成され、合成された第1の成分のビーム及び第2の成分のビームは、合成された第1の成分のビーム及び第2の成分のビームを測定し回折格子の変位を判定する検出器に誘導される、変位を測定するための装置や方法である。【選択図】図1
Claim (excerpt):
変位を測定するための装置であって、
干渉計コアに誘導される光ビームを含み、該干渉計コアは該光ビームを第1の成分のビーム及び第2の成分のビームに分割するようになっており、該第1の成分のビームは概ねリトロー角で回折格子に誘導され、前記干渉計コアによって受光され、前記第2の成分のビームと合成され、合成された前記第1の成分のビーム及び前記第2の成分のビームは、合成された該第1の成分のビーム及び該第2の成分のビームを測定して前記回折格子の変位を判定するようになっている検出器に誘導される、変位を測定するための装置。
IPC (3):
G01B 9/02
, G01B 11/00
, G01D 5/38
FI (3):
G01B9/02
, G01B11/00 G
, G01D5/38 A
F-Term (36):
2F064AA01
, 2F064EE10
, 2F064FF06
, 2F064GG12
, 2F064GG22
, 2F064GG23
, 2F064GG38
, 2F064GG39
, 2F064GG49
, 2F064GG69
, 2F064JJ01
, 2F064JJ05
, 2F065AA02
, 2F065AA09
, 2F065AA39
, 2F065FF16
, 2F065FF17
, 2F065FF48
, 2F065FF52
, 2F065GG23
, 2F065HH08
, 2F065LL12
, 2F065LL35
, 2F065LL36
, 2F065LL37
, 2F065LL42
, 2F065LL46
, 2F065LL55
, 2F065QQ17
, 2F103BA37
, 2F103CA04
, 2F103DA01
, 2F103EA01
, 2F103EC11
, 2F103EC12
, 2F103EC14
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
-
測長装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-331939
Applicant:三菱電機株式会社
-
コンパクトな多軸干渉計
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-026210
Applicant:アジレント・テクノロジーズ・インク
-
ウェハステージの平行移動を測定するヘテロダインレーザ干渉計
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-139718
Applicant:アジレント・テクノロジーズ・インク
-
干渉計内のガスの時変光学的性質を補償するための方法および装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2003-562561
Applicant:ザイゴコーポレーション
-
光学式変位測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-187842
Applicant:ソニー・プレシジョン・テクノロジー株式会社
-
光学式変位検出装置および方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-074562
Applicant:株式会社ミツトヨ
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Cited by examiner (6)
-
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-
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Application number:特願平10-187842
Applicant:ソニー・プレシジョン・テクノロジー株式会社
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Application number:特願2003-074562
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