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J-GLOBAL ID：200903039814615153

高密度有機分子薄膜の製造方法

Inventor： 山中 幹宏 ,  大野 公隆 ,  藤岡 一志 ,  御手洗 郷子
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 青山 葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999046248
Publication number (International publication number)：2000247799
Application date： Feb. 24, 1999
Publication date： Sep. 12, 2000
Summary：

【要約】【課題】 高密度で結晶性の高い、任意のパターンを容易に作製できる有機分子薄膜の製造方法の提供。【解決手段】 酸化チタン基板の表面に紫外線を通さない材料でマスクをかけて紫外線を照射し、次いで、該基板の紫外線照射領域のみに選択的に有機分子を吸着させて薄膜を形成させる。金属イオンを介して有機分子を複数層形成させることにより、累積薄膜を形成させることもできる。

Claim (excerpt)：

酸化チタン基板の表面に紫外線を通さない材料でマスクをかけて紫外線を照射し、次いで、該基板の紫外線照射領域のみに選択的に有機分子を吸着させて薄膜を形成させることを特徴とする高密度有機単分子薄膜の製造方法。

F-Term (5)：

4G077AA03 ,  4G077BF02 ,  4G077ED06 ,  4G077EF01 ,  4G077EJ03