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J-GLOBAL ID：200903039837162423

隠面処理装置

Inventor： 白石 尚人 ,  藤井 達也 ,  福島 正展 ,  中島 達也 ,  井澤 康浩
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Agent (1)： 鳥居 洋
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993081264
Publication number (International publication number)：1995037120
Application date： Mar. 15, 1993
Publication date： Feb. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】 この発明は、立体画像処理装置における無駄な演算を極力避け、処理スピードの向上を図ることをその目的とする。【構成】 この発明は、3次元立体を2次元スクリーン上に表示する立体画像処理装置における隠面処理装置において、ポリゴン面法線ベクトルを格納するメモリ11と、視線ベクトルをオブジェクトの回転と逆方向に回転させるベクトル回転回路15,16,17と、ポリゴン面法線ベクトルと回転処理された視線ベクトルとを内積し、その内積値によりポリゴンの可視、非可視を判定する判定回路18と、を備え、可視のポリゴンのみ3次元描画処理を行なう。

Claim (excerpt)：

ポリゴン面法線ベクトルを格納するメモリと、視線ベクトルをオブジェクトの回転と逆方向に回転させるベクトル回転回路と、ポリゴン面法線ベクトルと回転処理された視線ベクトルとを内積し、その内積値によりポリゴンの可視、非可視を判定する判定回路と、を備えてなる隠面処理装置。