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J-GLOBAL ID：200903039842433850

乾式フラックス処理方法及び装置

Inventor： サンザングル・テイエリー ,  メルル・シルヴイエ ,  デユシヤトー・エリク
Applicant, Patent owner： ル・エール・リクイツド・ソシエテ・アノニム・プール・ル・エチユド・エ・ル・エクスプルワテシヨン・デ・プロセデ・ジエオルジエ・クロード
Agent (1)： 八木田 茂 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993266178
Publication number (International publication number)：1994210445
Application date： Oct. 25, 1993
Publication date： Aug. 02, 1994
Summary：

【要約】【目的】 電子部品のような金属製品の少なくとも一表面を乾式フラックス処理する際に、フラックス残渣の除去にCFCを用いないようにする改良。【構成】 本発明は、フラックス処理する金属製品の一表面が、水素と、必要に応じて少なくとも1種類の不活性ガスを含むガス状混合物の、大気圧でのプラズマで処理する、前記の乾式フラックス処理方法に関する。本発明はまた、特に前記方法を実施する装置、並びにろう付又は金属被覆方法にも関する。

Claim (excerpt)：

フラックス処理すべき表面が、水素と、必要に応じて少なくとも1種類の不活性ガスからなるガス状混合物から生ずる、大気圧でのプラズマによって処理されることを特徴とする、金属製品の少なくとも一表面を乾式フラックス処理する方法。

IPC (4)：

B23K 3/00 ,  B23K 1/20 ,  C21D 1/38 ,  H05H 1/46

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平2-190489
  
• 特開平2-190489