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J-GLOBAL ID：200903039859307832

加熱装置

Inventor： 板楠 元邦
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 半田 昌男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992200240
Publication number (International publication number)：1994025858
Application date： Jul. 03, 1992
Publication date： Feb. 01, 1994
Summary：

【要約】【目的】 熱励起ラジカルを広範囲にわたって均一に生成することができる加熱装置を提供する。【構成】 支持体4の片面には、多数のフィラメント2を格子点状に配列する。フィラメント2を配列する領域は、被処理材料の処理面積より大きくする。また、支持体4には、反応性ガスを導入するためのガス導入孔6を多数形成する。フィラメント2は、支持体4の外周部に配置されたものとその内側に配置されたものとの二グループに分けられ、温度コントローラにより、フィラメント2に通電する電流量を各グループ毎に調整し、グループ単位でフィラメント2の温度を制御する。

Claim (excerpt)：

反応性ガスを加熱してラジカルを生成する発熱体を多数配列し、前記発熱体を支持する支持手段を具備することを特徴とする加熱装置。