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J-GLOBAL ID：200903039870380746

洗浄装置

Inventor： 吉田 陽 ,  ▲高▼橋 理 ,  石井 頼成
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (6)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005357777
Publication number (International publication number)：2007160175
Application date： Dec. 12, 2005
Publication date： Jun. 28, 2007
Summary：

【課題】微細気泡をムラなく被洗浄物に衝突させることができる洗浄装置を提供する。【解決手段】洗浄装置は、液体2中に気泡を発生させる気泡発生機構と、気泡および液体2を含む気液混合体を被洗浄物7に向けて放出する放出部4とを備えている。気泡発生機構は、放出部4から放出される気液混合体中に、相対的に小さな微細気泡3と相対的に大きな大気泡1とを混在させる。大気泡1と微細気泡3が混入された液体2を用いることによって、微細気泡3を被洗浄物7の表面で破裂させることができる。そのため、微細気泡3のマイクロジェット効果を十分に発揮させることが可能になる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

液体中に気泡を発生させる気泡発生機構と、 前記気泡および前記液体を含む気液混合体を被洗浄物に向けて放出する放出部とを備え、 前記気泡発生機構は、前記気液混合体中に、相対的に小さな微細気泡と相対的に大きな大気泡とを混在させる、洗浄装置。

IPC (1)：

B08B 3/02

FI (2)：

B08B3/02 A ,  B08B3/02 G

F-Term (4)：

3B201AA46 ,  3B201BB32 ,  3B201BB38 ,  3B201CD43

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-056767   Applicant：東陶機器株式会社