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J-GLOBAL ID：200903039897624124

イオン発生装置の製造方法

Inventor： 渡辺 靖之
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994273855
Publication number (International publication number)：1996137212
Application date： Nov. 08, 1994
Publication date： May. 31, 1996
Summary：

【要約】【目的】本発明は誘導電極と放電電極との間の電極マトリクスの各交点から均一なイオン発生を行え、かつ放電効率が高く、長尺の静電記録ヘッドの製造を容易に行うことを最も主要な特徴とする。【構成】導電ペースト11を絶縁基板2に塗布する工程と、ペースト11を絶縁基板2に塗布した後、ペースト11中の有機物を分解して誘導電極3を形成する工程とを設けたものである。

Claim (excerpt)：

誘導電極に対して誘電体層を挟んで放電電極がマトリクス状に交差された状態で配置されたイオン発生装置の製造工程中に、金属粉末と有機溶剤を含む混合物、または有機金属と有機溶剤を含む混合物のいずれか一方からなるペーストを基板に塗布するペースト塗布工程と、前記ペーストを前記基板に塗布した後、前記ペースト中の有機物を分解して前記誘導電極と放電電極のうち少なくともいずれか一方を形成する電極形成工程とを設けたことを特徴とするイオン発生装置の製造方法。

IPC (5)：

G03G 15/05 ,  B41J 2/415 ,  G03G 15/02 101 ,  H01T 19/00 ,  H01T 21/00

FI (2)：

G03G 15/00 116 ,  B41J 3/18 101