Pat

J-GLOBAL ID：200903039918476384

基材又は基板表面の汚染防止方法と装置

Inventor： 藤井 敏昭
Applicant, Patent owner： 株式会社荏原総合研究所 ,  株式会社荏原製作所
Agent (1)： 吉嶺 桂 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993222775
Publication number (International publication number)：1995057981
Application date： Aug. 17, 1993
Publication date： Mar. 03, 1995
Summary：

【要約】【目的】 微粒子及び炭化水素を効果的に除去し、基材又は基板表面の汚染を防止する方法を提供する。【構成】 基材又は基板表面の汚染を防止する方法において、基材又は基板と接触する少なくとも炭化水素を含む気体2を、除塵手段6と光触媒4上への光照射5による炭化水素の分解手段とにより浄化し、前記気体中の微粒子濃度をクラス10以下、非メタン炭化水素濃度を0.2ppm 以下となした後8、前記気体を基材又は基板表面9に暴露することとしたものである。

Claim (excerpt)：

基材又は基板表面の汚染を防止する方法において、基材又は基板と接触する少なくとも炭化水素を含む気体を、除塵手段と光触媒上への光照射による炭化水素の分解手段とにより浄化し、前記気体中の微粒子濃度をクラス10以下、非メタン炭化水素濃度を0.2ppm 以下となした後、前記気体を基材又は基板表面に暴露することを特徴とする基材又は基板表面の汚染防止方法。

IPC (2)：

H01L 21/02 ,  B08B 5/02