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J-GLOBAL ID：200903039938231930

感光性樹脂組成物

Inventor： 笹原 敦子 ,  熊田 輝彦 ,  吉田 育弘 ,  堀辺 英夫 ,  久保田 繁
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 高田 守
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994089917
Publication number (International publication number)：1995295221
Application date： Apr. 27, 1994
Publication date： Nov. 10, 1995
Summary：

【要約】【目的】 感光性樹脂組成物の未露光部の溶解速度を低く抑えるとともに、露光部の溶解速度を向上させ、さらに、アルカリ現像液に対する露光部と未露光部との溶解速度の差を大きくし、露光する放射線に対する高い感度を有する高解像度の感光性樹脂組成物を提供すること。【構成】 カルボキシル基と、特定のカルボン酸エステル基とを側鎖に有する高分子化合物(A)および光照射により酸または塩基を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。前記組成物にさらに多価カルボン酸エステル化合物または多価フェノールの炭酸エステル化合物またはアルカリ可溶性高分子化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。

Claim (excerpt)：

カルボキシル基を含有する基と、一般式(I):【化1】(式中、R1は水素原子、メチル基またはフェニル基、R2はt-ブチル基またはt-アミル基、iは0または1、jは0、1または2、ただし、jが0または1のばあい、複数のiはそれぞれ独立して0または1)で表わされるカルボン酸エステル基を含有する基、一般式(II):【化2】(式中、R3はt-ブチル基、t-アミル基、イソプロピル基、アリル基、1-メチルビニル基、1,1-ジメチルアリル基、2,5-ジオキサニル基またはテトラヒドロフラニル基、kは0、1または2)で表わされるカルボン酸エステル基を含有する基、一般式(III):【化3】(式中、R4は水素原子、メチル基またはフェニル基、R3は前記に同じ)で表わされるカルボン酸エステル基を含有する基および一般式(IV):【化4】(式中、R3は前記に同じ)で表わされるカルボン酸エステル基を含有する基のうちの少なくとも1種とを側鎖に有する高分子化合物および光照射により酸または塩基を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027