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J-GLOBAL ID：200903039946062862

水の脱窒処理装置

Inventor： 宇田川 万規子 ,  八木 康之 ,  山田 裕之 ,  江森 弘祥 ,  飯田 桂一郎
Applicant, Patent owner： 日立プラント建設株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997279688
Publication number (International publication number)：1998290996
Application date： Sep. 25, 1997
Publication date： Nov. 04, 1998
Summary：

【要約】【課題】 水素供与体として水素ガスを供給する脱窒法により硝酸性又は亜硝酸性窒素含有廃水を処理する際に、供給水素ガスの利用率を高めて効率よく脱窒しうる装置を提供すること。【解決手段】 硝酸性窒素及び/又は亜硝酸性窒素を含有する水の脱窒処理装置であって、脱窒槽1が、その底部に水素ガスを供給する電解槽3と、ガス排出配管15と、気相圧力検知器7と、脱窒槽頂部の混合ガスを底部へ循環するガス循環配管6とを有し、気相圧力検知器7の測定値が所定の下限値に達したとき制御装置16により電解槽3からの水素ガスの供給を開始させ、所定の上限値に達したら水素ガスの供給を停止させる。

Claim (excerpt)：

硝酸性窒素及び/又は亜硝酸性窒素を含有する水の脱窒処理装置において、脱窒槽が、その底部に水素ガスを供給する水素ガス供給手段と、ガス排出配管と、気相圧力検知手段と、脱窒槽頂部の混合ガスを底部へ循環するガス循環配管とを有し、気相圧力検知手段の測定値に応じて水素ガス供給手段からの水素ガスの間歇的供給を制御する制御装置を設けたことを特徴とする水の脱窒処理装置。

IPC (4)：

C02F 3/34 101 ,  C02F 3/34 ZAB ,  C02F 1/58 CDK ,  C02F 1/70 ZAB

FI (4)：

C02F 3/34 101 B ,  C02F 3/34 ZAB ,  C02F 1/58 CDK P ,  C02F 1/70 ZAB Z